生产厂家：德国ZEISS

设备型号：ULTRA 55

安放地点：昌平创新园南楼102

负责人：段晓鸽

联系电话：010-62332598-6102

主要功能：

该设备可以观察和检测微米、纳米级样品的表面形貌特征和成分、取向测试分析。其最大特点是具备超高分辨扫描图像观察能力，尤其是采用最新数字化图像处理技术，提供高倍数、高分辨扫描图像，是纳米材料粒径测试和形貌观察最有效仪器，也是研究材料结构与性能关系所不可缺少的重要工具。广泛用于生物学、医学、金属材料、高分子材料、化工原料、地质矿物、商品检验、产品生产质量控制、宝石鉴定、考古和文物鉴定及公安刑侦物证分析。

主要技术参数分辨率：1.0nm @ 15kV

放大率：12×～ 900,000×（SE）

加速电压：0.1kV～30kV

探针电流：4pA～20nA

样品室：330mm（内径）×270mm（高）

样品台：行程：X=Y=130mm；Z=50mm

旋转：360°连续（马达驱动）

倾斜：-3°～ +70°（马达驱动）

配置：

1.探测器：

In-lens内置式二次电子探测器

E-T二次电子探测器

EsB电子枪内置式能量选择型背散射电子探测器

AsB角度选择型背散射电子探测器

2.X射线能谱仪（EDS）

型号： INCA X-MAX 50（Oxford Instruments）

能量分辨率：129eV@MnKα

探测元素范围：Be4-U92

3.电子背散射衍射（EBSD）分析系统

型号：HKL Nordlys F+（Oxford Instruments）

空间分辨率：优于50nm

标定速度：600Hz（点/秒）

4.原位拉伸台

型号：Mtest 2000ES（Gatan）

最大载荷：2000N

力测试精度：载荷级别的1%

拉伸速度：0.033 - 0.4mm/min

试件可拉伸距离：≤10mm

实验室预约 ：

https://labstudio.maplebim.com/