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热场发射扫描电镜

ZEISS ULTRA 55热场发射扫描电镜(德国)
(ZEISS ULTRA 55 Field-Emission Scanning Electron Microscope)

    ZEISS ULTRA 系统场发射扫描电镜—基于SUPRA场发射扫描电镜,是目前最顶级的纳米结构分析用电子束工具,能够高效率和超高分辨率成像。新开发的能量选择背散射(EsB)和角度选择背散射(AsB)探测器展现了著名的GEMINI技术的最新进展。ULTRA系列集成了GEMINI In-Lens 二次电子探测器、EsB探测器和AsB探测器,其中In-Lens 二次电子探测器用于高分辨率表面形貌成像、EsB探测器用于高清晰成分对比成像、AsB探测器用于晶体结构取向分析。同步时时成像和混合成像提供最顶级的影像分析能力。EsB探测器含有过滤器,这个过滤器使得高分辨背散射电子成像成为可能,展现出过去根本看不见的图像细节。

技术指标:
分辨率:
    1.0nm @ 15kV @ WD=2mm
    1.7nm @ 1kV @ WD=2mm
    3.5nm @ 0.2kV@ WD=2mm
    4.0nm @ 0.1kV@ WD=2mm
放大率:
    12×~ 900,000×(SE)
    100×~ 900,000×(BSD)
检测器:
    In-lens
    电子枪内置式二次电子探测器
    EsB:电子枪内置式背散射电子探测器
    External:二次电子探测器
    AsB:背散射探测器
加速电压:
    0.1kV~30kV
样品电流:
    4pA~20nA
样品室:
    330(内径)mm×270(高)mm
样品台:
    行程:X=130mm Y=130mm Z=130mm
    旋转: 360°连续(马达驱动)
    倾斜: -3°~ +70°(马达驱动)

    广泛用于冶金、生物、建筑、机械等行业的材料形貌观察和分析,如金属、半导体、陶瓷、高分子材料、有机聚合物等。

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